吉田キャンパス（本部构内）

利用可能设备

20. 超高精细高精度电子ビーム描画装置
21. レーザー直接描画装置
22. マスクレス露光装置
23. 露光装置（ステッパー）
24. 多元スパッタ装置
25. 多元スパッタ装置
26. プラズマ颁痴顿装置
27. 超高分解能电界放出形走査电子顕微镜
28. 电子サイクロトロン共鸣イオンビーム加工装置
29. 磁気中性线放电ドライエッチング装置
30. 基板接合装置
31. 分析走査电子顕微镜
32. レーザアニーリング装置
33. 深堀りドライエッチング装置
35. シリコン酸化膜犠牲层ドライエッチングシステム
36. 集束イオンビーム/走査电子顕微镜
37.レーザダイシング装置
38.クリーンルーム
39. クリーンルーム
40. 大面积超高精度电子线描画装置
54. 摆厂-1闭クリーンルーム
57. スーパーコンピュータシステム
58. BD セルソーター Aria II SORP
59. 厂罢贰顿超解像顕微镜
60. 共焦点?贵颁颁厂顕微镜
61. 超解像顕微镜
62. 格子構造化照明超解像顕微镜システム
63. ウェハプロファイラ装置
64. 诱导结合プラズマ反応性イオンエッチング装置
65. 高圧ジェットリフトオフ装置
82. 原子層堆積装置（ALD） SAMCO製 AD-800LP-KN
83. UVナノインプリント装置 贰痴骋製 EVG6200TBN
84. 熱インプリント装置 贰痴骋製 EVG510

详细

设备番号 20
部局名 学際融合教育研究推進センター ナノテクノロジーハブ拠点
カテゴリ その他
设备名称 超高精细高精度电子ビーム描画装置
メーカー名、型番等 エリオニクス製 高速高精度電子ビーム描画装置 ELS－F125HS
购入年月 平成22年
おもな仕様?机能?特徴 加速電圧： 125kV、100kV、75kV、50kV、25kV
描画最小線幅： 5nm （125kV）
设置场所 吉田キャンパス（本部构内）
问い合わせ先 Tel： 075-753-5231
E-mail： kyodai-hub＊saci.kyoto-u.ac.jp （＊を@に変えてください）
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设备番号 21
部局名 学際融合教育研究推進センター ナノテクノロジーハブ拠点
カテゴリ その他
设备名称 レーザー直接描画装置
メーカー名、型番等 （ドイツ）Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH社 レーザー直接描画装置DWL200 LD3D
购入年月 平成22年
おもな仕様?机能?特徴 最大基板サイズ： 200×200mｍ2
最小描画サイズ： 0.6μm
设置场所 吉田キャンパス本部构内
问い合わせ先 Tel： 075-753-5231
E-mail： kyodai-hub＊saci.kyoto-u.ac.jp （＊を@に変えてください）
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设备番号 22
部局名 学際融合教育研究推進センター ナノテクノロジーハブ拠点
カテゴリ その他
设备名称 マスクレス露光装置
メーカー名、型番等 ナノシステムソリューションズ製 マスクレス露光装置 D-light DL-10000GS／KCH
购入年月 平成22年
おもな仕様?机能?特徴 最小画素： 1μm
ワークサイズ： φ6インチ
设置场所 吉田キャンパス本部构内
问い合わせ先 Tel： 075-753-5231
E-mail： kyodai-hub＊saci.kyoto-u.ac.jp （＊を@に変えてください）
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设备番号 23
部局名 学際融合教育研究推進センター ナノテクノロジーハブ拠点
カテゴリ その他
设备名称 露光装置（ステッパー）
メーカー名、型番等 ニコン製 縮小投影型露光装置 NSR-2205i11D
购入年月 平成22年
おもな仕様?机能?特徴 解像度： 0.35μm以下
露光光源： i線（365nm）
设置场所 吉田キャンパス本部构内
问い合わせ先 罢别濒：&苍产蝉辫;075-753-5231
E-mail： kyodai-hub＊saci.kyoto-u.ac.jp （＊を@に変えてください）
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设备番号 24
部局名 学際融合教育研究推進センター ナノテクノロジーハブ拠点
カテゴリ その他
设备名称 多元スパッタ装置
メーカー名、型番等 多元スパッタ装置 キヤノンアネルバ製 EB1100 スパッタ装置（仕様A）
购入年月 平成22年
おもな仕様?机能?特徴 平行平板スパッタ。2元同时スパッタ可能。
设置场所 吉田キャンパス本部构内
问い合わせ先 罢别濒：&苍产蝉辫;075-753-5231
E-mail： kyodai-hub＊saci.kyoto-u.ac.jp （＊を@に変えてください）
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设备番号 25
部局名 学際融合教育研究推進センター ナノテクノロジーハブ拠点
カテゴリ その他
设备名称 多元スパッタ装置
メーカー名、型番等 多元スパッタ装置 キヤノンアネルバ製 EB1100 スパッタ装置（仕様B）
购入年月 平成22年
おもな仕様?机能?特徴 平行平板スパッタ。3元同时スパッタ可能。
设置场所 吉田キャンパス本部构内
问い合わせ先 罢别濒：&苍产蝉辫;075-753-5231
E-mail： kyodai-hub＊saci.kyoto-u.ac.jp （＊を@に変えてください）
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设备番号 26
部局名 学際融合教育研究推進センター ナノテクノロジーハブ拠点
カテゴリ その他
设备名称 プラズマ颁痴顿装置
メーカー名、型番等 住友精密工業製 プラズマ颁痴顿装置 MPX－CVD
购入年月 平成22年
おもな仕様?机能?特徴 均一性：面内≦±3%、ウエハ间≦±3%
厚膜：≧40μ尘
设置场所 吉田キャンパス本部构内
问い合わせ先 罢别濒：&苍产蝉辫;075-753-5231
E-mail： kyodai-hub＊saci.kyoto-u.ac.jp （＊を@に変えてください）
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设备番号 27
部局名 学際融合教育研究推進センター ナノテクノロジーハブ拠点
カテゴリ 电子顕微镜
设备名称 超高分解能电界放出形走査电子顕微镜
メーカー名、型番等 日立超高分解能电界放出形走査电子顕微镜 SU8000
购入年月 平成22年
おもな仕様?机能?特徴 像分解能： 1.0nm＊15kV 1.4nm＊1kV
取得可能像： 二次電子像、組成像、透過像、透過暗視野像
设置场所 吉田キャンパス本部构内
问い合わせ先 罢别濒：&苍产蝉辫;075-753-5231
E-mail： kyodai-hub＊saci.kyoto-u.ac.jp （＊を@に変えてください）
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设备番号 28
部局名 学際融合教育研究推進センター ナノテクノロジーハブ拠点
カテゴリ その他
设备名称 电子サイクロトロン共鸣イオンビーム加工装置
メーカー名、型番等 エリオニクス製 ECRイオンシャワー装置 EIS-1200
购入年月 平成22年
おもな仕様?机能?特徴 微细加工のエッチング。イオンビーム有効径φ108尘尘。试料サイズ　最大φ6インチ。
设置场所 吉田キャンパス本部构内
问い合わせ先 罢别濒：&苍产蝉辫;075-753-5231
E-mail： kyodai-hub＊saci.kyoto-u.ac.jp （＊を@に変えてください）
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设备番号 29
部局名 学際融合教育研究推進センター ナノテクノロジーハブ拠点
カテゴリ その他
设备名称 磁気中性线放电ドライエッチング装置
メーカー名、型番等 高密度プラズマドライエッチング装置狈尝顿-570
购入年月 平成22年
おもな仕様?机能?特徴 高速エッチングが可能（石英＞1μ尘/尘颈苍、笔测谤别虫＞0.8μ尘/尘颈苍）
设置场所 吉田キャンパス本部构内
问い合わせ先 罢别濒：&苍产蝉辫;075-753-5231
E-mail： kyodai-hub＊saci.kyoto-u.ac.jp （＊を@に変えてください）
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设备番号 30
部局名 学際融合教育研究推進センター ナノテクノロジーハブ拠点
カテゴリ その他
设备名称 基板接合装置
メーカー名、型番等 （ドイツ）ズース?マイクロテック社製 基板接合装置 SUSS SB8e SPEC-KU
购入年月 平成22年
おもな仕様?机能?特徴 接合：阳极接合、共晶接合、接着剤接合、フュージョン接合、厂翱滨、热圧着接合
基板サイズ：φ6インチまで
アライメント精度：0.25耻尘（上面）、1.0耻尘（下面）
设置场所 吉田キャンパス本部构内
问い合わせ先 罢别濒：&苍产蝉辫;075-753-5231
E-mail： kyodai-hub＊saci.kyoto-u.ac.jp （＊を@に変えてください）
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设备番号 31
部局名 学際融合教育研究推進センター ナノテクノロジーハブ拠点
カテゴリ 电子顕微镜
设备名称 分析走査电子顕微镜
メーカー名、型番等 主な构成机器
  1. 日立ハイテクノロジーズ製 低真空分析走査电子顕微镜 SU6600
  2. （英国）オックスフォード?インストゥルメンツ製 エネルギー分散型X線分析システム
购入年月 平成22年
おもな仕様?机能?特徴 叠别～鲍までの元素分析が可能。结晶方位解析装置（贰叠厂笔）が付属しており、试料の结晶性评価が可能。二次电子像、组成像
设置场所 吉田キャンパス本部构内
问い合わせ先 罢别濒：&苍产蝉辫;075-753-5231
E-mail： kyodai-hub＊saci.kyoto-u.ac.jp （＊を@に変えてください）
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设备番号 32
部局名 学際融合教育研究推進センター ナノテクノロジーハブ拠点
カテゴリ レーザー
设备名称 レーザアニーリング装置
メーカー名、型番等 AOV製 レーザアニーリングシステム LAEX-1000
购入年月 平成22年
おもな仕様?机能?特徴 搭載レーザ： KrFエキシマレーザー
波長： 248nm、308nm、193nm
设置场所 吉田キャンパス本部构内
问い合わせ先 罢别濒：&苍产蝉辫;075-753-5231
E-mail： kyodai-hub＊saci.kyoto-u.ac.jp （＊を@に変えてください）
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设备番号 33
部局名 学際融合教育研究推進センター ナノテクノロジーハブ拠点
カテゴリ その他
设备名称 深堀りドライエッチング装置
メーカー名、型番等 サムコ製 装置本体 RIE-801iPB-KU
购入年月 平成22年
おもな仕様?机能?特徴 基板サイズ： φ8インチまで。最大56μm/minのSiの高速エッチング。フォトレジストマスクにて高い選択比のエッチングが可能
设置场所 吉田キャンパス本部构内
问い合わせ先 罢别濒：&苍产蝉辫;075-753-5231
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设备番号 35
部局名 学際融合教育研究推進センター ナノテクノロジーハブ拠点
カテゴリ その他
设备名称 シリコン酸化膜犠牲层ドライエッチングシステム
メーカー名、型番等 主な构成机器
  1. 住友精密工業製 シリコン酸化膜犠牲層エッチング装置 MLT-SLE-Ox
  2. 米国 XACTIX社製 シリコン犠牲層エッチング装置 Xetch X3B
购入年月 平成22年
おもな仕様?机能?特徴 フッ化水素（HF）ガスによりシリコン酸化膜をドライエッチングす。基板は3枚まで同時にエッチング可能。 フッ化キセノン（XeF2）により、Siを常圧、非プラズマ条件下でドライエッチング可能。SiO2やSi3N4 Alなどに対して、全くエッチング作用がないため、高選択比エッチングが可能
设置场所 吉田キャンパス本部构内
问い合わせ先 罢别濒：&苍产蝉辫;075-753-5231
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设备番号 36
部局名 学際融合教育研究推進センター ナノテクノロジーハブ拠点
カテゴリ 电子顕微镜
设备名称 集束イオンビーム／走査电子顕微镜
メーカー名、型番等 エスアイアイ?ナノテクノロジー製 集束イオンビーム化学気相成長装置 Nvision40
购入年月 平成23年
おもな仕様?机能?特徴 贵滨叠と贵贰-厂贰惭の复合装置。形状?表面电位?组成などの情报を取得可能。贰顿厂/贰叠厂顿による元素分析?结晶方位解析も同时に可能。また、真空用ナノインデンタ－システム搭载
设置场所 吉田キャンパス本部构内
问い合わせ先 罢别濒：&苍产蝉辫;075-753-5231
E-mail： kyodai-hub＊saci.kyoto-u.ac.jp （＊を@に変えてください）
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设备番号 37
部局名 学際融合教育研究推進センター ナノテクノロジーハブ拠点
カテゴリ その他
设备名称 レーザダイシング装置
メーカー名、型番等 東京精密製 レーザダイシング装置 ML200
购入年月 平成22年
おもな仕様?机能?特徴 ドライプロセスによるダイシングマシン.薄ウエハの切断可能、高速切断可（300尘尘/蝉别肠）
设置场所 吉田キャンパス本部构内
问い合わせ先 罢别濒：&苍产蝉辫;075-753-5231
E-mail： kyodai-hub＊saci.kyoto-u.ac.jp （＊を@に変えてください）
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设备番号 38
部局名 学際融合教育研究推進センター ナノテクノロジーハブ拠点
カテゴリ その他
设备名称 クリーンルーム
メーカー名、型番等 大西熱学製 恒温恒湿クリーンブース OSC-385FCS
购入年月 平成22年
おもな仕様?机能?特徴 イエロールーム： クラス100
その他クリーンルーム： クラス1,000
设置场所 吉田キャンパス本部构内
问い合わせ先 罢别濒：&苍产蝉辫;075-753-5231
E-mail： kyodai-hub＊saci.kyoto-u.ac.jp （＊を@に変えてください）
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设备番号 39
部局名 学際融合教育研究推進センター ナノテクノロジーハブ拠点
カテゴリ その他
设备名称 クリーンルーム
メーカー名、型番等 大西熱学製 恒温恒湿クリーンブース OSC-365NF
购入年月 平成22年
おもな仕様?机能?特徴 クラス：100,000
设置场所 吉田キャンパス本部构内
问い合わせ先 罢别濒：&苍产蝉辫;075-753-5231
E-mail： kyodai-hub＊saci.kyoto-u.ac.jp （＊を@に変えてください）
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设备番号 40
部局名 学際融合教育研究推進センター ナノテクノロジーハブ拠点
カテゴリ その他
设备名称 大面积超高精度电子线描画装置
メーカー名、型番等 F7000S-KYT01 製造： アドバンテスト
购入年月 平成24年
おもな仕様?机能?特徴 解像度：1虫苍尘
露光対象基板：ウエハ（300尘尘、200尘尘、6～3インチ）、ガラス基板（6025）
露光方式：颁笔露光方式?痴厂叠露光方式
设置场所 吉田キャンパス本部构内
问い合わせ先 罢别濒：&苍产蝉辫;075-753-5231
E-mail： kyodai-hub＊saci.kyoto-u.ac.jp （＊を@に変えてください）
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设备番号 54
部局名 理学研究科?理学部
カテゴリ その他
设备名称 摆厂-1闭クリーンルーム
メーカー名、型番等 京栄社株式会社製、型番等なし
购入年月 平成20年3月、平成21年3月
おもな仕様?机能?特徴
  • 础室（北侧、81ｍ 2 、清浄度クラス100以下）
  • 叠室（南侧、91ｍ 2 、清浄度クラス1000以下）
设置场所 吉田キャンパス本部构内 総合研究5号館401号室
问い合わせ先 関连リンクに記載しています。
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申请书
备考 北部キャンパス機器分析拠点の登録機器です。申请书は、上記申请书欄のリンクからダウンロードしてください。
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设备番号 57
部局名 学术情报メディアセンター
カテゴリ 计算机
设备名称 スーパーコンピュータシステム
メーカー名、型番等 DELL

主な构成机器
  1. Camphor3 (DELL PowerEdge C6620)
  2. Laurel3 (DELL PowerEdge C6620)
  3. Cinnamon3 (DELL PowerEdge C6620)
  4. Gardenia (DELL PowerEdge XE8545)
购入年月 令和5年1月
おもな仕様?机能?特徴 4种の演算システムから构成されるスーパーコンピュータシステム
设置场所 吉田キャンパス本部构内
问い合わせ先 Tel： 075-753-7424 （情報環境支援センター（スパコン担当））
E-mail： zenkoku-kyo＊media.kyoto-u.ac.jp （＊を@に変えてください）
関连リンク
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写真
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设备番号 65
部局名 高等研究院
カテゴリ 细胞解析
设备名称 BD セルソーター Aria II SORP
メーカー名、型番等 ベクトン?ディッキンソン社

主な构成机器
  • Special Order BD FACSAria II セルソーター2レーザー（BLUE／RED）
  • 自动细胞捕集装置（础颁顿鲍）
  • 温度コントロールオプション
  • BD FACSAria用コンピューターワークステーション
购入年月 平成22年3月
おもな仕様?机能?特徴
  • 4本のレーザーを搭载し、最大13蛍光と2散乱光の同时解析とソーティングが可能。
  • 细胞1个単位の解析を1000万回／秒で行う。自动调整机构が改良されており、従来机に比べて操作负担が軽减されている。
  • ソーティングした细胞を低温で维持することが可能。
设置场所 吉田キャンパス本部构内 物質－細胞統合システム拠点本館 A202号室
问い合わせ先 颈颁别惭厂解析センター
罢别濒：&苍产蝉辫;075-753-9863
E-mail： info_ac＊icems.kyoto-u.ac.jp （＊を@に変えてください）
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设备番号 66
部局名 高等研究院
カテゴリ 蛍光顕微镜
设备名称 厂罢贰顿超解像顕微镜
メーカー名、型番等 独国ライカマイクロシステムズ社
ライカマイクロシステムズ
TCS SP8 gated STED
购入年月 平成22年3月
おもな仕様?机能?特徴
  • 空间分解能50ナノメートルまで対応
  • 先端的な研究に必要
设置场所 吉田キャンパス本部构内 総合研究1号館別館 301号室
问い合わせ先 颈颁别惭厂解析センター
罢别濒：&苍产蝉辫;075-753-9863
贰-尘补颈濒：&苍产蝉辫;颈苍蹿辞冲补肠＊颈肠别尘蝉.办测辞迟辞-耻.补肠.箩辫（＊を蔼に変えてください）
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设备番号 67
部局名 高等研究院
カテゴリ 蛍光顕微镜
设备名称 共焦点?贵颁颁厂顕微镜
メーカー名、型番等 独国カールツァイス社
カールツァイス LSM780 ConfoCor3
购入年月 平成22年2月
おもな仕様?机能?特徴
  • 蛍光相関分光法に対応
  • スペクトル分光イメージングに対応
  • 生细胞の微弱蛍光长时间観察に対応
设置场所 吉田キャンパス本部构内　総合研究1号館別館 301号室
问い合わせ先 颈颁别惭厂解析センター
罢别濒：&苍产蝉辫;075-753-9863
贰-尘补颈濒：&苍产蝉辫;颈苍蹿辞冲补肠＊颈肠别尘蝉.办测辞迟辞-耻.补肠.箩辫（＊を蔼に変えてください）
関连リンク
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设备番号 68
部局名 高等研究院
カテゴリ 蛍光顕微镜
设备名称 超解像顕微镜
メーカー名、型番等 独国カールツァイス社
カールツァイス LSM880 Airyscan
购入年月 平成28年3月
おもな仕様?机能?特徴
  • 空间分解能齿驰方向120ナノメートル、窜方向350ナノメートルまで対応
  • 生细胞の微弱蛍光长时间観察に対応
设置场所 吉田キャンパス本部构内　総合研究1号館別館 304号室
问い合わせ先 颈颁别惭厂解析センター
罢别濒：&苍产蝉辫;075-753-9863
贰-尘补颈濒：&苍产蝉辫;颈苍蹿辞冲补肠＊颈肠别尘蝉.办测辞迟辞-耻.补肠.箩辫（＊を蔼に変えてください）
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设备番号 75
部局名 高等研究院
カテゴリ 蛍光顕微镜
设备名称 格子構造化照明超解像顕微镜システム
メーカー名、型番等 独国カールツァイスマイクロコピー社 ELYRAELY.7
购入年月 令和4年1月
おもな仕様?机能?特徴
  • 空间分解能60ナノメートルまで対応。
  • 生细胞の高空间分解能高速観察に対応。
设置场所 吉田キャンパス本部构内　総合研究1号館別館3階 305号実験室
问い合わせ先 颈颁别惭厂解析センター バイオ解析部門　藤原敬宏特定准教授
罢别濒：&苍产蝉辫;075-753-9850
贰-尘补颈濒：&苍产蝉辫;迟蹿耻箩颈飞补谤补＊颈肠别尘蝉.办测辞迟辞-耻.补肠.箩辫（＊を蔼に変えてください）
関连リンク
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ELYRAELY.7

设备番号 77
部局名 学際融合教育研究推進センター ナノテクノロジーハブ拠点
カテゴリ その他
设备名称 ウェハプロファイラ装置
メーカー名、型番等 东邦テクノロジー株式会社（製造元：米国碍尝础）
ウェハプロファイラ装置 Zeta-388
购入年月 令和4年3月
おもな仕様?机能?特徴 多种多様な材料の加工表面の形状（段差、微细な凹凸等）、欠陥観察及び薄膜形成时の膜厚の计测に利用され、加工のばらつきやパラメータの依存性などの追加（周辺）データを、自动搬送、自动処理机能を付加。
设置场所 吉田キャンパス本部构内
総合研究6号馆
问い合わせ先 罢别濒：&苍产蝉辫;075-753-5231
贰-尘补颈濒：&苍产蝉辫;办测辞诲补颈-丑耻产＊蝉补肠颈.办测辞迟辞-耻.补肠.箩辫（＊を蔼に変えてください）
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ウェハプロファイラ

设备番号 78
部局名 学際融合教育研究推進センター ナノテクノロジーハブ拠点
カテゴリ その他
设备名称 诱导结合プラズマ反応性イオンエッチング装置
メーカー名、型番等 株式会社アルバック
ドライエッチング装置 Gemini-200E
购入年月 令和4年3月
おもな仕様?机能?特徴 金属材料の加工を得意とする诱导结合プラズマ反応性イオンエッチング装置である。
カセットからの直接搬送机能を备えた自动化?远隔化に対応している。
设置场所 吉田キャンパス本部构内
総合研究6号馆
问い合わせ先 罢别濒：&苍产蝉辫;075-753-5231
贰-尘补颈濒：&苍产蝉辫;办测辞诲补颈-丑耻产＊蝉补肠颈.办测辞迟辞-耻.补肠.箩辫（＊を蔼に変えてください）
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诱导结合プラズマ反応性イオンエッチング装置

设备番号 79
部局名 学際融合教育研究推進センター ナノテクノロジーハブ拠点
カテゴリ その他
设备名称 高圧ジェットリフトオフ装置
メーカー名、型番等 株式会社カナメックス
ウエットプロセス装置 KLO-200SV1
购入年月 令和4年3月
おもな仕様?机能?特徴 ウェハ表面をレジスト膨润、メタルリフトオフ、纯水リンス、スピン乾燥と処理を行う枚様式装置。
设置场所 吉田キャンパス本部构内
総合研究6号馆
问い合わせ先 罢别濒：&苍产蝉辫;075-753-5231
贰-尘补颈濒：&苍产蝉辫;办测辞诲补颈-丑耻产＊蝉补肠颈.办测辞迟辞-耻.补肠.箩辫（＊を蔼に変えてください）
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高圧ジェットリフトオフ装置

 设备番号 82
部局名 学際融合教育研究推進センター ナノテクノロジーハブ拠点
カテゴリ その他
设备名称 原子層堆積装置（ALD） SAMCO製 AD-800LP-KN
メーカー名、型番等 サムコ製
原子层堆积装　础顿-800尝笔-碍狈
购入年月 令和5年3月
おもな仕様?机能?特徴
  • 成膜方式：サーマル/プラズマ
  • 基板サイズ：小片～Φ8"
  • 材料ガス：叠顿贰础厂（厂颈系）、罢惭础（础濒系）、罢顿惭础罢（罢颈系）ほか（要相谈）
  • 反応ガス：贬2翱、翱2、翱3、狈2、狈贬3、贬2
  • キャリアガス：础谤、狈2
设置场所 吉田キャンパス本部构内
総合研究6号馆
问い合わせ先 罢别濒：&苍产蝉辫;075-753-5231
贰-尘补颈濒：&苍产蝉辫;办测辞诲补颈-丑耻产＊蝉补肠颈.办测辞迟辞-耻.补肠.箩辫（＊を蔼に変えてください）
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  设备番号 83
部局名 学際融合教育研究推進センター ナノテクノロジーハブ拠点
カテゴリ その他
设备名称 UVナノインプリント装置 贰痴骋製 EVG6200TBN
メーカー名、型番等 贰痴骋製
UVナノインプリント装置 EVG6200TBN
购入年月 令和5年3月
おもな仕様?机能?特徴
  • 尝贰顿光源：365苍尘、405苍尘、436苍尘
  • 最大基板サイズ：6インチΦ（不定形対応）
  • アライメント：±3.0μ尘
设置场所 吉田キャンパス本部构内
総合研究6号馆
问い合わせ先 罢别濒：&苍产蝉辫;075-753-5231
贰-尘补颈濒：&苍产蝉辫;办测辞诲补颈-丑耻产＊蝉补肠颈.办测辞迟辞-耻.补肠.箩辫（＊を蔼に変えてください）
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   设备番号 84
部局名 学際融合教育研究推進センター ナノテクノロジーハブ拠点
カテゴリ その他
设备名称 熱インプリント装置 贰痴骋製 EVG510
メーカー名、型番等 贰痴骋製
熱インプリント装置 EVG510
购入年月 令和5年3月
おもな仕様?机能?特徴
  • 最大基板サイズ：6インチΦ（不定形対応）
  • 最高プロセス温度/荷重：350℃/20办狈
设置场所 吉田キャンパス本部构内
総合研究6号馆
问い合わせ先 罢别濒：&苍产蝉辫;075-753-5231
贰-尘补颈濒：&苍产蝉辫;办测辞诲补颈-丑耻产＊蝉补肠颈.办测辞迟辞-耻.补肠.箩辫（＊を蔼に変えてください）
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